การศึกษาการสร้างฟิล์มบางดีบุกออกไซด์เจือโบรอน โดยเทคนิคไพโรซอล
ฟิล์มบางดีบุกออกไซด์เจือด้วยโบรอน (BTO) ถูกเคลือบลงบนแผ่นแก้วสไลด์ด้วยเทคนิคไพโรซอล ซึ่งสารละลายตั้งต้นประกอบด้วย SnCl2.2H2O ความเข้มข้นของ SnCl2 ที่ละลายในเอทานอลเป็น 0.8 โมลาร์ และแปรค่าความเข้มข้นของ H3BO3 ที่ละลายใน 0.2 โมลาร์ HCl (0.6cm3) เป็น 0.1, 0.2, 0.3, 0.4 , 0.5, 0.6 โมลาร์ วิธีการเคลือบใช้การสร้างละอองของสารละลายตั้งต้นด้วย ultrasonic generator จากนั้นทำการศึกษาคุณสมบัติเชิงฟิสิกส์และเชิงแสงของฟิล์มบางโดยใช้ SEM, XRD, four-point probe measurement และ UV/VIS spectrophotometer ซึ่งพบว่ากระบวนการที่โบรอนมีความเข้มข้น 0.4 โมลาร์ อัตราการปล่อยแก๊ส 0.5 litre/minute เมื่อใช้เวลา 20 นาที และอุณหภูมิของฐานรองรับเป็น 390 20C จะให้คุณสมบัติเชิงฟิสิกส์และเชิงแสงของฟิล์มบางดีกว่ากระบวนการอื่นๆ โดยมีค่าความต้านทานไฟฟ้าเฉลี่ยวัดได้ 3.692 k -cm และมีค่าการส่องผ่านแสงเฉลี่ยเท่ากับ 59.58 เปอร์เซ็นต์
-
5596 การศึกษาการสร้างฟิล์มบางดีบุกออกไซด์เจือโบรอน โดยเทคนิคไพโรซอล /index.php/project-all/item/5596-2016-09-09-03-39-28เพิ่มในรายการโปรด