การศึกษาเปรียบเทียบความหนาของฟิล์มบางไททาเนียมไนไตรด์ (TiNx) ที่ทำการเคลือบโดยวิธี ดี.ซี แมกนีตรอน สปัตเตอริง ระหว่างอุณหภูมิ 30° ถึง 180 °C บนแผ่นสไลด์และใบมีดกลึง
โครงการพิเศษนี้ ศึกษาความหนาของฟิล์มบางไททาเนียมไนไตรด์ (TiNx) ที่เคลือบโดยวิธี ดี.ซี.แมกนีตรอน สปัตเตอริง บนแผ่นกระจกสไลด์และใบมีดกลึงเป็น substrates ก่อนเคลือบได้ทำการให้ความร้อนกับ substrates โดยอุณหภูมิที่ให้อยู่ระหว่าง 30° ถึง 180 °C และหาความหนาของฟิล์มไททาเนียมไนไตรด์ โดยใช้เครื่อง Scanning Electron Microscope (SEM) ผลที่ได้คือ เมื่อความร้อนที่ให้กับ substrates มีค่าเพิ่มขึ้น สีของฟิล์มไททาเนียมไนไตรด์เปลี่ยนจากสีทองเป็นสีเหลืองอมน้ำตาล ความหนาของฟิล์มไททาเนียมไนไตรด์บนแผ่นกระจกสไลด์ลดลงจาก 11.40 μm ถึง 1.30 μm และบนใบมีดกลึงลดลงจาก 292.19 μm ถึง 52.08 μm ------------------------------------------------------------------------------------------------------------------- Abstract : In this special project, titanium nitride thin films were deposited by D.C. magnetron sputtering with slide glass and blade substrates: the samples should be heated between temperatures 30° to 180 °C before deposition. The thickness of TiNx films were determined by Scanning Electron Microscope (SEM). Results obtain a color range from gold to yellow-brown when the temperatures increased. The TiNx thickness were decreased from 11.40 μm to 1.30 μm on slide glass and 292.19 μm to 52.08 μm on blade.
-
6116 การศึกษาเปรียบเทียบความหนาของฟิล์มบางไททาเนียมไนไตรด์ (TiNx) ที่ทำการเคลือบโดยวิธี ดี.ซี แมกนีตรอน สปัตเตอริง ระหว่างอุณหภูมิ 30° ถึง 180 °C บนแผ่นสไลด์และใบมีดกลึง /project-chemistry/item/6116-tinx-30-180-cเพิ่มในรายการโปรด