อิทธิพลของระยะห่างระหว่างตัวให้ความร้อนถึงวัสดุรองรับ ต่อคุณสมบัติของฟิล์มทองแดง ที่สร้างด้วยวิธีการระเหยสาร
การวิจัยนี้เป็นการศึกษาวิธีการระเหยสารในระบบสุญญากาศในการเคลือบฟิล์มบางของทองแดงและอิทธิพลของระยะห่างระหว่างตัวให้ความร้อนถึงวัสดุรองรับ ด้วยเครื่องเคลือบฟิล์มบาง Veeco VE-300 จากการทดลองเคลือบทองแดงบนแผ่นแก้วสไลด์ พบว่าระยะห่างระหว่างตัวให้ความร้อนถึงวัสดุรองรับ มีผลต่อสมบัติของฟิล์มบาง ---------------------------------------------------------------------------------------------------------------- Abstract : This research is to study the evaporation technique of Cu thin film and also the influence of source-to-substrate distance on the properties of thin films by using Veeco VE-300 evaporator. Cu films were successfully grown on glass substrates. The result shows that the source-to-substrate distance has an affect on the properties of the film.
-
6114 อิทธิพลของระยะห่างระหว่างตัวให้ความร้อนถึงวัสดุรองรับ ต่อคุณสมบัติของฟิล์มทองแดง ที่สร้างด้วยวิธีการระเหยสาร /project-other/item/6114-2016-09-09-03-45-47-6114เพิ่มในรายการโปรด